一、核心模块（免费，商业 / 非商业均可使用）
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ML 模块（机器学习）
- 功能：支持向量机（SVM）、K 均值聚类、神经网络（ANN）等。
- 收费状态：免费。属于 OpenCV 主库，遵循 Apache 2.0 许可。
- 依据：官方文档及社区确认。
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DNN 模块（深度学习）
- 功能：加载 Caffe、TensorFlow 模型，前向传播推理。
- 收费状态：免费。核心模块，无专利或收费限制。
- 依据：官方开源声明。
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Flann 模块（快速近似最近邻搜索）
- 功能：高维数据近似最近邻搜索与聚类。
- 收费状态：免费。属于主库模块，无专利限制。
- 依据：模块属于标准 OpenCV 组件。
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Photo 模块（图像修复与去噪）
- 功能：图像修复、去噪、超分辨率等。
- 收费状态：免费。核心模块，无收费算法。
- 依据：官方模块列表及社区实践）。
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Stitching 模块（图像拼接）
- 功能：图像对齐、融合、全景图生成。
- 收费状态：免费。主库模块，基于开源算法（如 SIFT 需注意专利，但其在 Stitching 中的集成已规避专利限制）。
- 依据：官方文档及社区教程。
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Shape 模块（形状匹配与距离计算）
- 功能：形状描述、匹配、距离度量（如 Hu 矩、Contour 匹配）。
- 收费状态：免费。核心模块，无专利算法。
- 依据：模块属于标准 OpenCV 组件。
二、需注意的特殊模块（非免费或专利受限）
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Non-Free 模块（如 SIFT、SURF）
- 功能：特征检测与描述（如 SIFT、SURF）。
- 收费状态：专利受限，商业使用需授权。
- 说明：
- 这些算法属于
opencv_contrib的xfeatures2d模块，需编译时启用OPENCV_ENABLE_NONFREE。 - SIFT 专利（美国专利 US6711293）已过期（2020 年），但部分地区可能仍有约束；SURF 专利（欧洲专利 EP1588702）仍有效，商业使用需付费。
- 这些算法属于
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Contrib 扩展模块
- 收费状态：多数免费，但部分算法（如 Face Recognition 的商业模型）可能需额外授权。
- 说明：
opencv_contrib中的模块需单独编译，部分算法（如非免费的人脸检测模型）可能涉及专利。
三、总结：各模块收费明细
| 模块名称 | 收费状态 | 说明 |
|---|---|---|
| ML | 免费 | 主库模块，Apache 2.0 许可。 |
| DNN | 免费 | 主库模块，支持第三方模型（如 Caffe、TensorFlow），无额外费用。 |
| Flann | 免费 | 主库模块，基于开源近似搜索算法。 |
| Photo | 免费 | 主库模块，包含图像修复、去噪等标准算法。 |
| Stitching | 免费 | 主库模块，集成开源拼接算法（如无专利的特征匹配方法）。 |
| Shape | 免费 | 主库模块，基于几何形状分析的开源算法。 |
| Non-Free（如 SIFT/SURF） | 专利受限 | SIFT 专利过期（部分地区可能仍需注意），SURF 需商业授权。 |
| Contrib 扩展 | 多数免费 | 部分算法（如特定人脸识别模型）可能需额外授权，需查看具体模块说明。 |
四、使用建议
- 优先使用主库模块：ML、DNN、Flann、Photo、Stitching、Shape 均为免费，无专利风险。
- 谨慎使用 Non-Free 模块：
- SIFT（专利过期）：非商业用途一般无问题，商业使用建议确认地区专利状态。
- SURF：商业使用需联系专利持有者（如 University of British Columbia）。
- 编译与配置：
- 官方预编译包（如
opencv-python）默认不包含 Non-Free 模块，需手动编译opencv_contrib并启用相关选项。 - 检查编译参数（如
OPENCV_ENABLE_NONFREE），避免意外包含专利算法。
- 官方预编译包（如
- 专利查询：对特定算法（如 SURF），通过专利数据库（如 USPTO、EPO）确认当前有效期。
五、依据来源
- 官方声明：OpenCV 官网明确所有主库模块遵循 Apache 2.0 许可。
- 社区实践：CSDN、51CTO 博客等开发者经验表明，标准模块（如 Flann、Stitching）均为免费。
- 专利分析：Non-Free 模块（如 SIFT/SURF）的专利状态在社区讨论中被多次提及。
结论：除明确标注的 Non-Free 模块（如 SURF）外，OpenCV 的 ML、DNN、Flann、Photo、Stitching、Shape 等模块均为免费，可自由用于商业和非商业场景。使用前建议查阅官方文档或咨询法律专业人士，确保符合地区专利法规。
