Janus单层Cr2SSe中的应变可调多压电效应与谷电子学

📅 2026/8/13 12:58:00
Janus单层Cr2SSe中的应变可调多压电效应与谷电子学
Janus单层Cr2SSe中的应变可调多压电效应与谷电子学PHYS. REV. B 113, 224428 (2026)Janus单层Cr2SSe中的应变可调多压电效应与谷电子学Strain-Tunable Multipiezoeffects in Janus Monolayer Cr2SSe导读 导读交错磁体Altermagnet同时具备铁磁体的自旋劈裂和反铁磁体的零净磁矩是谷电子学的理想平台。本文通过第一性原理计算预测Janus单层Cr2SSe展现出应变可调的多压电效应压电谷压电压磁并实现选择性谷极化反转和单自旋通道反常谷霍尔效应。核心发现4%应变下谷极化达57.6 meV超过大多数已知ferrovalley材料-2%到-3%应变下实现价带谷极化的选择性反转导带谷极化方向不变为低功耗谷电子学器件设计提供了新范式。一、前言背景交错磁体中的谷电子学从对称性到器件交错磁体Altermagnet, AM是2022年以来凝聚态物理最具革命性的发现之一。其核心特征在于实空间自旋反平行排列净磁矩为零但倒空间能带出现非相对论自旋劈裂。这种独特的对称性特征使得AM材料同时具备铁磁体的自旋极化输运和反铁磁体的超快动力学、无杂散场等优势。谷电子学Valleytronics利用能带中不同谷valley的自由度来编码和传递信息。在传统TMD材料中谷自由度由时间反演对称性保护需要外磁场或磁掺杂来打破。而在AM体系中谷简并由晶体对称性如镜面对称保护形成C-paired valleys使应变工程成为调控谷极化的自然手段。本文研究的Janus单层Cr2SSe具有P4mm空间群对称性打破了面外镜像对称Janus结构同时保留了面内对角镜面Mxy对称性。这一独特的对称性组合使得该材料同时展现出压电谷、压电和压磁三种多压电效应成为多功能谷电子学器件的理想平台。多压电效应应变同时调控电、磁、谷三个自由度核心问题单轴应变如何同时调控Janus AM材料的谷极化、电偶极矩和净磁矩这三种效应之间是否存在耦合方法体系VASPDFTU, PBEUeff3.5 eV- Phonopy声子谱- AIMD热稳定性- Wannier90Berry曲率- Berry-phase方法电极化- Bader电荷分析压磁机制。关键发现(1) 4%应变下谷极化达57.6 meV超过大多数ferrovalley材料(2) -2%到-3%应变下实现价带谷极化的选择性反转导带谷极化方向不变(3) -3%应变下实现单自旋通道反常谷霍尔效应AVHE(4) 压电、压磁、压电谷三种效应在单一材料中同时可调。Janus Cr2SSe多压电效应与谷电子学研究流程。VASP DFTU结构稳定性、磁基态、电子结构、MAE- 单轴应变工程-4%到4%打破Mxy对称性- Wannier90Berry曲率- 三种压电效应压电谷、压电、压磁- 单自旋通道反常谷霍尔效应。二、研究方法VASP DFTU基态电子结构与磁性计算设置PBE泛函 PAW赝势, ENCUT500 eV, 13x13x1 Gamma-centered k点弛豫和电子结构, 真空层30 A。Cr原子Hubbard Ueff3.5 eVJ0与同类Cr基AM材料Cr2SeO一致。收敛标准能量10^-6 eV力0.001 eV/A。磁基态确定对比FM、AFM1、AFM2、AFM3四种磁构型AFM1为基态。关键AFM1中两个Cr子晶格由C2和Mxy对称性连接而非PT对称性确认为AM序。SOC计算表明带隙基本不变确认自旋劈裂的非相对论起源。稳定性验证三重检查(1) 声子谱无虚频Phonopy, 5x5x1超胞(2) AIMD 300K/5ps能量波动极小(3) 弹性常数C1162.9 N/m, C128.2 N/m满足Born-Huang判据。应变工程 Wannier90 Berry曲率谷电子学计算单轴应变施加方式沿x或y方向施加-4%到4%的单轴应变每次改变晶格常数后重新弛豫原子位置。应变打破Mxy对称性使X和Y谷不再简并产生谷极化。Wannier90紧束缚模型基于Cr-d轨道和Se/S-p轨道构建MLWFs用于插值计算Berry曲率。Berry曲率通过Kubo公式计算是AVHE的核心物理量。注意原始态Mxy对称性保留时Berry曲率处处为零只有施加应变后才出现非零分布。电极化计算Berry-phase方法LCALCPOL.TRUE.计算面外自发极化。Bader电荷分析用于解释压磁效应的微观机制--应变导致两个Cr子晶格电荷不等价通过Hund规则产生不同局域磁矩。谷极化定义Delta_C(V)为导带价带X谷与Y谷的能量差正值表示Y谷能量更低Berry曲率Kubo公式f_n(k)为费米分布函数psi_nk为Bloch波函数v_x/v_y为速度算符形变势常数量化能带边缘对应变的敏感度D值越大表示该能带边缘对应变越敏感反常速度Berry曲率作为倒空间有效磁场在电场E下产生横向速度驱动AVHE三、核心结果图 1Janus单层Cr2SSe的晶体结构和稳定性。(a) 俯视图P4mm空间群Mxy对称性。(b) 侧视图S-Cr-Se堆叠。(c) 声子谱无虚频动态稳定。(d) AIMD模拟300K/5ps热稳定。(e) 无SOC能带结构间接带隙0.82 eVAM自旋劈裂。(f) 含SOC能带结构带隙基本不变非相对论自旋劈裂。AM序与自旋-谷锁定C-paired valleys的对称性根源Cr2SSe的AM序特征两个Cr子晶格的自旋方向相反但由C2和Mxy连接而非PT对称性连接。这导致倒空间中出现d波形式的自旋劈裂X和Y谷的导带和价带分别被相反自旋通道占据形成自旋-谷锁定spin-valley locking。与传统TMD谷电子学的本质区别在MoS2等TMD中K和K谷由T对称性配对T-paired valleys打破谷简并需要外磁场或磁掺杂。在Cr2SSe中X和Y谷由Mxy对称性配对C-paired valleys单轴应变即可天然打破谷简并无需外部磁场。这一对称性特征使AM材料成为低功耗谷电子学的理想平台器件操作仅需机械应变不依赖电流产生的磁场功耗极低。图 22%单轴应变下的能带结构和谷极化。(a,c) x方向应变价带谷极化-12.4 meV导带谷极化28.7 meV。(b,d) y方向应变价带谷极化12.4 meV导带谷极化-28.7 meV。(e,f) 谷极化随应变-4%到4%的演化导带线性响应价带非线性响应x/y方向趋势相反。压电谷效应应变方向控制谷极化符号谷极化量级4%应变下导带谷极化达57.6 meV超过LaBr233 meV、YCl222 meV、CrOBr44 meV等已知ferrovalley材料。这一大谷极化值来源于AM材料中C-paired valleys对应变的特殊敏感性。方向可控性x方向应变产生正谷极化y方向应变产生负谷极化。这一符号反转由Mxy对称性决定Mxy操作交换X和Y谷因此沿x和y方向的应变产生相反的谷极化演化趋势。导带vs价带响应差异导带谷极化线性依赖于应变价带谷极化非线性响应。根源在于轨道成分差异导带以Cr-d轨道为主多方向电子分布应变敏感价带以Se-p轨道为主哑铃型分布应变相对不敏感。图 3压磁效应和压电效应的应变依赖性。(a) 净磁矩随应变演化压缩和拉伸应变均诱导微弱净磁矩。(b) Bader电荷分析应变导致两个Cr子晶格电荷不等价通过Hund规则产生不等价局域磁矩。(c) 带隙随应变演化。(d) 电极化随应变线性变化自发极化4.13 pC/m-4%应变增至4.37 pC/m。多压电效应的协同机制三重对称性破缺的统一图景压电谷效应由Mxy对称性破缺驱动。无应变时Mxy交换X和Y谷强制执行谷简并。单轴应变打破Mxy使X和Y谷不再等价产生谷极化。压磁效应同样由Mxy对称性破缺驱动。Mxy将自旋向上Cr子晶格映射到自旋向下Cr子晶格锁定零净磁矩。应变打破Mxy后两个子晶格不再等价Bader电荷差异导致不等价局域磁矩净磁矩不再为零。压电效应由Janus结构固有的空间反演对称性破缺驱动与Mxy无关。Cr2SSe本身缺乏面外镜像对称性存在自发极化。应变仅通过晶格畸变调制极化大小。三种效应虽然共享应变这一外部刺激但依赖不同的对称性破缺机制因此可以实现独立调控而不相互干扰。图 4-2%和-3%压缩应变下的选择性谷极化反转和AVHE。(a,b) 能带结构。(c,d) 谷极化-2%时价带2.2 meV-3%时价带-1.6 meV反转导带保持负值。(e,f) Berry曲率分布。(g,h) AVHE示意图-2%时自旋通道混合-3%时单自旋通道。选择性谷极化反转与单自旋通道AVHE选择性反转机制-2%到-3%应变区间价带形变势常数发生交叉X谷价带边缘在-2%时更敏感Y谷价带边缘在-3%时更敏感导致价带谷极化符号反转。而导带形变势常数始终保持X谷Y谷谷极化方向不变。单自旋通道AVHE-3%应变下价带谷极化反转使空穴通道Y谷附近和电子通道X谷附近均关联spin-up实现理想的自旋极化输运。这为低功耗自旋电子学器件提供了新机制。实验验证建议可通过自旋分辨ARPES直接观测应变诱导的谷极化反转通过横向霍尔电压测量验证AVHE通过偏振分辨PL和MOKE间接验证谷和自旋依赖的载流子响应。DFT Tips【DFT Tip 1】AM材料磁基态确定的正确流程对于交错磁体磁基态确定比传统FM/AFM材料更复杂。步骤(1) 先做非磁态弛豫获得初始结构(2) 根据空间群对称性枚举所有可能的共线磁构型(3) 在INCAR中手动设置MAGMOM每个原子指定自旋方向和初始值不能依赖默认FM初始化(4) 比较各磁构型总能量能量最低者为基态。关键验证确认基态磁构型满足自旋空间群对称性。AM的特征是Cr子晶格由C2或Mxy等晶体旋转操作连接而非PT操作连接。如果两个子晶格由PT连接则为传统AFM而非AM。常见陷阱直接用FM初始磁矩计算AM材料VASP可能收敛到亚稳态的FM解而非AM基态。务必手动设置MAGMOM标签且对不同磁构型逐个测试。【DFT Tip 2】Cr3的Hubbard U值选择3.5 eV vs 4 eVCr2SSe使用Ueff3.5 eV而Cr2Se2O使用Ueff4 eV。差值0.5 eV看似不大但可能影响自旋劈裂大小和带隙。Cr3d3的典型U值范围在3-5 eV之间。选择依据(1) 参考同类材料的文献值Cr2SSe参考Cr2SeO的3.5 eV(2) 线性响应方法从头计算U值(3) 在U/-1 eV范围内做敏感性测试确保定性结论不变。注意不同化学环境S vs Se vs O配位中Cr3的U值可能不同。S和Se的配位场弱于Od电子更离域理论预测U值应略小于氧化物中的值。Cr2SSe使用3.5 eV是合理的但建议在论文中补充U值敏感性分析。【DFT Tip 3】2D材料应变计算中的Poisson效应施加单轴应变时必须考虑Poisson效应沿x方向拉伸时y方向会因Poisson收缩而改变晶格常数。本文似未明确说明是否考虑了Poisson效应这对应变下的定量结果有影响。正确处理方式(1) 固定应变方向的晶格常数弛豫垂直方向的晶格常数和所有原子位置(2) 或同时施加双轴应变但双轴应变不破坏Mxy对称性无法产生谷极化。常见错误只改变一个方向的晶格常数保持另一个方向不变且不弛豫原子。这会导致非物理的应力状态和错误的能量/电子结构。【DFT Tip 4】Berry曲率计算的Wannier插值技巧从DFT能带计算Berry曲率的标准流程(1) 做自洽计算获取CHGCAR(2) 非自洽计算生成MLWFsWannier90(3) 用Wannier插值在密集k网格上计算Berry曲率。对于AM材料必须包含SOC才能得到非零Berry曲率原始Mxy对称性保留时Berry曲率为零。关键参数Wannier90中disentanglement窗口需覆盖目标能带导带底和价带顶附近inner窗口设置为感兴趣的能带范围。对于Cr2SSeCr-d和Se/S-p轨道是构建MLWFs的最小基组。常见陷阱Wannier拟合质量差spread不收敛或能带拟合偏差大导致Berry曲率在k空间震荡。解决方法是增加初始投影轨道数量、调整disentanglement窗口、或使用SCDM方法自动选择初始投影。【DFT Tip 5】Berry-phase方法计算2D材料电极化2D材料的电极化计算需特别注意(1) 真空层方向不能使用Berry-phase只能计算面内极化(2) 面外极化通过平面平均静电势的差异估算vacuum level difference不是严格Berry-phase(3) 本文的4.13 pC/m是面外极化应通过静电势方法获得。VASP设置LCALCPOL.TRUE.用于面内Berry-phase极化计算。对于面外极化做LOCPOT计算后处理得到平面平均静电势取真空层两侧势差。常见陷阱将2D材料的极化单位pC/m与3D铁电体的极化单位uC/cm^2混淆。2D极化是1D线密度3D极化是2D面密度两者物理意义不同不能直接比较数值。【DFT Tip 6】Bader电荷分析的正确使用与局限Bader电荷分析将电子密度划分为原子区域常用于解释电荷转移和氧化态。本文用它解释压磁效应应变导致Cr(I)和Cr(II)子晶格电荷不等价通过Hund规则产生不同局域磁矩。注意Bader电荷是拓扑划分不是物理观测量。不同划分方法Bader vs Hirshfeld vs Mulliken给出的绝对值不同只有相对变化趋势有意义。对于磁性材料Bader电荷与磁矩的关系不是简单的线性关系。Hund规则是定性指导定量上磁矩还受配位场、共价性、自旋极化程度等因素影响。建议结合自旋密度图本文Fig.S3更直观地展示磁矩的空间分布。【DFT Tip 7】Phonopy声子谱计算中的超胞收敛声子谱计算是验证2D材料动力学稳定性的标准方法。本文使用5x5x1超胞基于2x2磁超胞需要确认超胞是否足够大以收敛声子频率。收敛检查(1) 比较不同超胞大小3x3x1, 4x4x1, 5x5x1的声子谱(2) 重点关注Gamma点附近声学支是否满足二次色散面外ZA模和线性色散面内TA/LA模(3) 确保无虚频或仅有可忽略的Gamma点附近微小虚频。常见陷阱2D材料中ZA模面外声学支在Gamma点附近应呈现二次色散而非线性色散。如果ZA模出现线性色散说明真空层不够大或数值精度不足。【DFT Tip 8】形变势常数计算连接应变与电子结构形变势常数D dE/d(epsilon)是量化能带边缘对应变响应的核心参数。计算步骤(1) 对不同应变值计算能带结构(2) 提取VBM和CBM在X和Y谷的能量(3) 对能量-应变关系做线性或二次拟合斜率即为形变势常数。本文的关键发现导带X谷形变势常数始终大于Y谷而价带在-2%到-3%之间发生交叉。这一交叉是选择性谷极化反转的微观起源。注意形变势常数依赖于参考能级的选择。通常以真空能级或深芯能级为参考。对于2D材料推荐使用真空能级作为绝对参考避免价带顶或导带底的绝对位移带来的歧义。【DFT Tip 9】单自旋通道AVHE的理论预测与实验差距本文预测的单自旋通道AVHE是在理想条件下0K、无缺陷、完美周期性、均匀应变的理论结果。实际实验中有限温度、缺陷散射、自旋混合、谷间散射等因素会降低自旋极化率和霍尔响应。在论文中正确表述明确指出这是理想clean-limit band-edge regime的理论预测而非实验可达到的精确值。强调核心发现是应变诱导的自旋分辨谷输运通道分离机制而非具体的自旋极化率数值。实验验证方案通过栅压分别实现电子和空穴掺杂选择性探测导带和价带输运通道。结合自旋分辨ARPES直接观测应变下的能带自旋劈裂。【DFT Tip 10】Janus结构2D材料的vdW修正Cr2SSe是Janus结构一侧S一侧Se面内共价键为主vdW相互作用相对较弱。但vdW修正对层间距和晶格常数仍有影响特别是在应变计算中。建议(1) 使用optB86b-vdW或DFT-D3等vdW修正方法(2) 对比有无vdW修正的晶格常数和弹性常数差异(3) 对于应变计算如果vdW修正影响较大需在每种应变下重新启用vdW修正弛豫。注意本文未明确提及vdW修正方法。对于单层材料vdW修正主要影响面外方向对面内应变计算结果影响较小但仍建议在方法部分明确说明。知识扩展【知识扩展 1】C-paired valleys vs T-paired valleys谷电子学的对称性范式转变【理论解释】传统谷电子学如MoS2中K和K谷由时间反演对称性T连接T-paired valleys。T操作同时翻转波矢和自旋因此K^和Kv具有相同能量。打破谷简并需要破缺T对称性通常通过外磁场或磁掺杂实现。【C-paired valleys】在AM体系中谷简并由晶体对称性如镜面、旋转而非T保护。例如Cr2SSe中X和Y谷由Mxy镜面对称性连接。打破这类对称性只需要单轴应变无需磁场或掺杂功耗极低。【方法比较】T-paired方案需要外磁场~1-10T或磁掺杂器件集成困难功耗高。C-paired方案仅需机械应变可与MEMS/NEMS技术集成超低功耗。但C-paired valleys目前仅在AM材料中发现材料选择有限。【经典参考】Smejkal et al., PRX 12, 031042 (2022) -- AM理论框架Xiao et al., PRL 108, 196802 (2012) -- TMD谷电子学经典Mak et al., Science 344, 1489 (2014) -- 谷霍尔效应实验。【迁移能力】C-paired valleys的概念适用于所有具有适当晶体对称性的AM材料包括Fe2MoS4、Ti2Se2S、VPSe3等。【知识扩展 2】多压电效应从单一效应到多场耦合【理论解释】传统的压电效应1880年Curie发现仅涉及应变-电极化的耦合。压磁效应piezomagnetism涉及应变-磁化的耦合在AM材料中由于补偿磁序极为敏感。压电谷效应piezovalley effect是近年提出的新概念涉及应变-谷极化的耦合。【多压电效应multipiezo effect】指应变同时调控电、磁、谷三个自由度的协同效应。Cr2SSe是目前少数同时展现三种压电效应的单材料体系。其物理根源在于AM序提供磁自由度Janus结构提供电偶极矩C-paired valleys提供谷自由度。【历史发展】压电效应1880- 压磁效应1960s- 多铁性2000s- 压电谷效应2020s- 多压电效应2025。每一步都代表了对材料中多自由度耦合认识的深化。【经典参考】Curie Curie (1880) -- 压电效应发现Ikhlas et al., Nat. Phys. 18, 1086 (2022) -- 反铁磁压磁效应Jiang et al., APL 126, 053102 (2025) -- AM多压电效应。【迁移能力】多压电效应概念可推广至其他Janus型AM材料Cr2SeO、Cr2SO、V2Se2O等以及具有类似对称性的二维多铁材料。科研经验【科研经验 1】应变工程计算中的系统误差控制问题应变计算中不同应变值下的计算精度是否一致应变范围是否合理非线性效应的物理来源是什么原因(1) 不同应变下晶格常数变化平面波基组的等效截断能改变导致Pulay应力(2) 应变过大5%时谐波近似失效需考虑非谐效应(3) 2D材料在压缩应变下可能出现buckling改变电子结构。解决方案(1) 对所有应变值使用相同的ENCUT以最大晶格常数为基准避免Pulay应力(2) 应变范围控制在/-5%以内大多数2D材料在此范围内弹性响应线性(3) 对压缩应变检查是否出现面外buckling如有则需在弛豫中允许原子沿z方向移动。建议在论文中展示不同应变下的结构参数键长、键角、层间距佐证结构变化的合理性。对于非线性响应如价带谷极化务必提供物理机制解释。【科研经验 2】AM vs 传统AFM的DFT区分陷阱问题在DFT计算中如何确定一个材料是AM而不是传统AFM仅凭能带自旋劈裂是否足够原因很多传统AFM在SOC下也会出现自旋劈裂但这是相对论效应~meV量级而非AM的非相对论自旋劈裂~100 meV量级。仅看能带劈裂存在无法区分AM和AFMSOC。解决方案(1) 分别计算无SOC和含SOC的能带如果无SOC就出现显著自旋劈裂则为AM特征(2) 分析磁构型的对称性两个子晶格是否由晶体旋转而非PT或平移反演连接(3) 检查自旋劈裂的k空间分布AM的d波劈裂有节点AFMSOC的劈裂通常无节点。建议在论文中同时展示无SOC和有SOC的能带并明确标注自旋劈裂的对称性d波/g波/i波。仅凭能带劈裂声称AM是不够严谨的。【科研经验 3】Berry曲率符号与AVHE的对应关系问题Berry曲率在X和Y谷符号相反如何判断AVHE的方向和幅值负Berry曲率是否意味着负Hall电压原因AVHE的Hall电压正比于Berry曲率在占据态上的积分不仅取决于Berry曲率的符号还取决于费米能级的位置doping类型和浓度。对于空穴掺杂费米能级在价带积分来自价带Berry曲率对于电子掺杂费米能级在导带积分来自导带Berry曲率。解决方案(1) 分别计算空穴和电子掺杂下的AVHE(2) 在论文中明确标注费米能级的位置(3) 对于Berry曲率符号相反的谷AVHE的贡献相互竞争净效应取决于费米能级处两个谷的态密度权重。建议在方法部分提供详细的AVHE计算公式说明是整数Hall电导量子化还是非量子化的Hall电导。对于非量子化的AVHE需明确区分与量子反常霍尔效应QAHE的不同。如果是我我还会继续算【继续算 1】HSE06杂化泛函验证带隙与自旋劈裂为什么值得算PBE带隙0.82 eV可能被低估30-50%HSE06可给出更准确的带隙和自旋劈裂值。带隙的准确性直接影响谷极化作为器件工作温度上限的估计。能回答的问题HSE06下的自旋劈裂模式和谷极化是否与PBE定性一致带隙修正后AVHE的能量窗口是否变化适合体系所有半导体AM材料。输入HSE06计算ENCUT500 eV, 减少k点到5x5x1【继续算 2】Monte Carlo模拟磁转变温度为什么值得算本文未计算Cr2SSe的磁转变温度Neel温度。对于实际器件应用需要知道AM序能维持到多高温度。能回答的问题Cr2SSe的Neel温度是多少应变对磁转变温度有何影响压磁效应在接近T_N时是否增强适合体系所有2D磁性材料。输入DFT提取交换耦合J_ijEspinS或VAMPIRE进行Monte Carlo模拟到中等。【继续算 3】载流子掺杂效应超越应变调控为什么值得算本文仅通过应变调控谷极化但静电栅压载流子掺杂是另一种重要的调控手段。掺杂可以移动费米能级改变AVHE的大小和符号。能回答的问题电子/空穴掺杂如何影响谷极化和Berry曲率是否存在最优掺杂浓度使AVHE最大化不同掺杂浓度下选择性谷极化反转的阈值是否改变适合体系所有半导体AM材料。输入在DFT中通过增减电子数NELECT标签模拟掺杂或使用刚性能带模型。【继续算 4】非线性光学响应SHG与谷极化的光学探测为什么值得算Janus结构缺乏反演对称性天然具有二次谐波产生SHG响应。SHG强度对谷极化和应变敏感可作为谷极化的全光学探针。能回答的问题Cr2SSe的SHG系数有多大应变如何调控SHGSHG能否区分X和Y谷的极化状态适合体系所有非中心对称2D材料。输入VASP计算非线性光学极化率LEPSILON.TRUE. 非线性模块。【继续算 5】双层/异质结中的谷电子学层间耦合效应为什么值得算单层Cr2SSe的谷极化在器件中可能受衬底影响。构建双层或异质结如Cr2SSe/BN、Cr2SSe/Cr2SeO可以研究层间耦合对谷极化和AVHE的影响。能回答的问题双层Cr2SSe的层间磁耦合是什么类型异质结中谷极化是否被保持层间耦合是否产生新的拓扑相适合体系所有2D vdW材料。输入构建异质结超胞DFT弛豫电子结构计算到高。【继续算 6】TB2J提取交换耦合 自旋波激发谱为什么值得算从DFT提取J参数可以构建Heisenberg模型进一步计算自旋波谱磁振子。磁振子对AM材料的热输运和自旋输运有重要贡献。能回答的问题Cr2SSe的交换耦合参数是多少AM序的自旋波谱与AFM有何不同自旋波是否携带Berry曲率适合体系所有磁性材料。输入VASP TB2J SpinW/Sunny。Shen, Tan, Yao, Liao, Dong | Phys. Rev. B 113, 224428 (2026) | 交错磁体 多压电效应 谷电子学 AVHE